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Uma análise detalhada da difusão em materiais, abordando conceitos como difusão em líquidos e gases, difusão em sólidos, modelos de difusão substitucional e intersticial, e aplicação da difusão em processos de endurecimento superficial dos aços, embalagens para bebidas gaseificadas, materiais magnéticos para discos rígidos e outros. O documento também discute a dependência da difusão com a temperatura, a energia de ativação e a estrutura cristalina.
Tipologia: Slides
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Fenômeno de transporte de material por movimento atômicoque implica na homogeneização dos átomos, moléculas ouque implica na homogeneização dos átomos, moléculas ouíons envolvidos.
-^
-^
-^
-^
-^
Aplicações •^
Carbonetação para endurecimento superficial dos aços–
Aumento do teor de carbono a uma dada profundidade na peça oucomponente
-^
Aplicação de dopantes para fabricação de junções p-n (semi-
d
)
condutores)–
São átomos dopantes o P, As, Sb, B, Al e outros.
-^
Materiais magnéticos para discos rígidos^ –
Ligas de cobalto (Co-Pt-Ta-Cr) aplicadas pela técnica de “sputtering”
-^
Tratamento térmico para difundir o Cr para os contornos de grão
-^
Embalagens para bebidas gaseificadas
g^
p^
g
-^
evitar a difusão do CO
(PET) polietileno tereftalato 2
Difusão em Sólidos^ •^
Par de Difusão
Mecanismos de DifusãoMecanismos de Difusão •^
Migração passo a passo de um ponto para outro na rede cristalina
-^
Condições:Condições:–
Deve haver um vazio adjacente
-^
Energia suficiente para romper ligações e causar alguma distorção da rededurante o deslocamento
-^
Energia vibracional (depende da temperatura)
-^
Modelos para movimentação atômica
ã^
ê
-^
Difusão substitucional ou de lacunas: O processo necessita da existência devazios,
que por sua vez, depende da temperatura. A difusão de átomos em uma
direção implica em difusão de lacunas na direção oposta.
-^
Difusão intersticial: Neste caso um átomo soluto intersticial se desloca paraoutra posição intersticial disponível. É um mecanismo comum que envolveátomos de pequeno diâmetro como: H, C, O e N.
Modelos de Difusão substitucional e Intersticial A difusão de um átomo intersticial é mas fácil do que a de uma lacuna.
Em forma diferencial
dM
J
1
=
Em forma diferencial
dt A
J
=
-^
Se o fluxo de difusão não varia com o tempo
então fica estabelecida
-^
Se o fluxo de difusão não varia com o tempo
, então fica estabelecida
uma condição de difusão em regime permanente ou estacionárioEx : Difusão de átomos de gás através de uma placa metálicaEx.: Difusão de átomos de gás através de uma placa metálica
Neste caso, a partir do perfil linear apresentado pode-sedefinir o gradiente de concentração como:definir o gradiente de concentração como:
dC
C
C
C
B
A
=
−
=
∆
dx
x
x
x
B
A
−
∆
3
ou g/m
unidade de volume do sólido (kg/m
ou g/m ).
A difusão no estado estacionário em uma direção
é aquela em
que o fluxo é proporcional ao gradiente de concentração pelaque o fluxo é proporcional ao gradiente de concentração pelaexpressão: 1
a^
L i d
Fi k
)
(^
átomos
dC D
J
a^
Lei de Fick:
)
(^
2
s
m
dx D
J
⋅
Difusão em Regime Não Estacionário
-^
Neste caso, o fluxo de difusão e o gradiente de concentraçãoem um ponto particular no sólido variam com o tempo, comem um ponto particular no sólido variam com o tempo, comuma taxa de acumulação ou depleção das espécies emdifusão.
a^
Lei de Fick:
)
(^
C
D
C
∂
∂
∂
a^
Lei de Fick:
)
(^
x
D x
t^
∂
∂
Sendo o coeficiente de difusão independente da composiçãotemos:
2
C
D
C
∂
=
∂
2 x
D
t^
∂
=
∂
A equação acima tem solução para condições de contornodefinidas em cada situação particular.
Modelo da barra semi
Modelo da barra semi
Solução conforme as condições de contorno
⎞
⎛
⎞⎟ ⎟ ⎠
⎛⎜⎜ ⎝
⋅
− −
t x D
erf
C
C
C
C
x s
2
1 (^00)
Onde: Cx
= concentração em uma posição x C^0
= concentração inicial da liga C^0
concentração inicial da liga
Cs
= concentração do meio imposto x^
= distância da superfície D
= coeficiente de difusão na temperatura de carbonetação t^ = tempo de tratamento
⋅ t x D
erf
Função erro Gausiana
dy
e
z
erf
z
y
−
=
2
2
y
f^
π